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ZESTRON携领先清洗技术亮相2014 NEPCON 成都展
来源: fbe-china.com作者: Kenny Fu时间：2019-11-20 22:44:12点击：7712
全球领先的电子制造和半导体加工行业精密清洗产品、清洗技术支持及培训方案提供商ZESTRON出席了于2014年6月25日至27日举办的2014NEPCON成都展。
ZESTRON本次为广大西部地区的客户带来MPC（微相清洗技术）的领先清洗技术。MPC是创新型的水基清洗技术，由ZESTRON开发应用于相关系列产品上。MPC的技术特性意味着更宽泛的工艺窗口和更强大的清洗能力，能够完全去除电子元器件表面的污染物残留。MPC结合了溶剂型和表面活性剂型这两种传统清洗剂的优点，将表现出更卓越高效的清洗结果和更长的清洗寿命，有效为您提升产品质量，节省整体工艺成本。
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